[시선뉴스] 26일 SK하이닉스는 실적설명회를 통해 "올해 투자금액은 7조원 수준으로, 상당 부분을 추가 클린룸 건설과 관련 인프라에 투자할 것", "D램 투자는 전년 대비 감소시키고 3D 낸드플래시 투자는 생산능력 증가를 위해 전년대비 증가한다"고 밝혔다.

SK하이닉스는 수요가 급증하는 3D 낸드플래시 시장 공략을 강화하기 위해 지난해 출하를 시작한 48단 3D 낸드플래시 비중을 확대하고, 차세대 72단 3D 낸드플래시 제품 개발을 앞당긴다는 계획이다.

 

주력 사업인 D램 부문에 대해서는 20나노미터 초반대의 제품 비중을 확대하고 상반기 중 10nm 후반대 제품 개발을 완료한다고 밝혔다.

SK하이닉스는 이에 대해 "지난해 20 나노 D램 비중이 40%를 넘어섰다"며, "올해는 연말까지 60%이상으로 확대한다"고 밝혔다.

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